例如，附着力强 V树脂氧气的等离子体具有很高的氧化性，可以氧化光刻胶产生气体，进而达到清洗效果；腐蚀气体等离子体具有良好的各向异性，可以满足腐蚀的要求。当使用等离子体处理时，会宣布辉光，因此称为辉光放电处理。等离子清洗技术的主要特点是可以不考虑基片类型的处理策略它可以处理金属、半导体、氧化物和大多数
